第二百四十三章 超紫外激光!波长1.5nm!功率2000w!(1)-《科技帝国从高分子材料开始》


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    在这套机台上,其实有很多技术和产品,都是来自昆仑集团,但最重要的部分,必须是掩膜台下方,巨大而又极端精密的物镜。

    物镜由三十多块镜片组成,主要作用是把掩膜版上的电路图,按照比例缩小,再用激光映射的硅晶圆上,并且物镜还要主动补偿各种光学误差,控制曝光精度。

    可以毫不夸张的说,物镜就是光刻机的心脏,如果物镜技术过关,哪怕掩膜技术差一点,光源功率弱一些,最终也能得到不错的结果。

    但如果物镜技术不行,其他所有子系统就算造的再好,也没有任何作用。

    毕竟光刻机的本质,是一套光学系统。

    很多不了解半导体行业的同学,往往对其有所误解,真正的芯片制造流程,是激光透过物镜在硅片上曝光出来的,而不是用机器物理雕刻出来的。

    高原目光扫过硕大的物镜时候,嘴角轻轻扬起一抹弧度,信心满满。

    这套物镜来自系统那大猪蹄子的馈赠,绝不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起来那么简单,除了精度,它还有着强大的功率补偿机制,容错机制。

    也就是说,激光通过物镜后,功率可以得到一定程度提升,精度方面,则可以做到无限接近完美的程度。

    总之就是很牛逼很强大的意思,开了外挂的物镜,效果杠杠的。

    物镜下面,就是测量台和曝光台了,老式光刻机需要先测量,再曝光,而这种双工作台系统,则可以实现一片硅片曝光同时,对另一片硅片进行测量和校准,工作效率提高一倍以上。

    目前世界上,只有荷兰asml掌握双工作台技术,长春这个机台如果量产的话,将是世界第二名。

    整套机台最底部,是内部封闭框架和减振器,它们负责将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持恒定的温度和压力。

    这一点极其重要,毕竟是制造高精密芯片,哪怕最微小的震动,一粒尘埃,或者空气温度和湿度的差别,都有可能导致硅片曝光失败,或者前后两批芯片的性能不一致。

    一台完整的光刻机,大体就是这样了。
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